칩 제조: 중국, 자체 EUV 레이저 프로토타입 공개

무슨 일이 있었나요?

랑다오 실렉스는 제26회 중국 국제 산업 박람회에서 EUV 광원 시제품을 보여주었습니다. EUV는 아주 작은 회로를 칩에 찍는 데 쓰는 매우 짧은 파장의 빛입니다. 이 회사는 네덜란드 칩 장비 회사 ASML과 독일 레이저 공급사 트럼프(Trumpf)의 방식을 따랐습니다. 작은 주석 방울에 레이저를 쏘아 주석을 뜨거운 플라즈마로 바꾸고, 그때 나오는 빛을 씁니다.

핵심 숫자

• 레이저 출력은 1,000와트입니다.
• 주석 방울을 초당 최대 20,000번 맞춥니다.
• 회사는 EUV 출력이 15와트 이상이라고 밝혔습니다.
• 빛의 파장은 아직 공개되지 않았습니다. ASML은 13.5나노미터입니다.
• 회사는 100시간 넘게 멈추지 않고 작동할 수 있다고 말합니다.

칩용 빛이 어려운 이유

칩 장비가 빠르게 일하려면 아주 강한 EUV 빛이 필요합니다. ASML은 세계에서 EUV 장비를 만드는 유일한 회사입니다. 수출 제한 때문에 중국에는 오래된 모델만 팔 수 있을 수도 있습니다. 현재 ASML 장비는 약 600와트의 EUV 빛을 만들지만, 실리콘 웨이퍼에 닿기 전에 많은 거울을 지나며 빛이 크게 줄어듭니다. 중국 시제품은 이 수준에 아직 한참 못 미칩니다.

왜 중요한가요?

중국은 외국 공급자에 의존하지 않으려고 자체 칩 장비를 만들려 합니다. 이번 시제품은 실제 진전을 보여줍니다. 하지만 전문가들은 아직 갈 길이 멀다고 봅니다. 박람회 직원들은 양산까지 3~5년이 남았다고 말했고, 짜이스 SMT의 대표는 중국이 모든 부품을 만들고 생산 문제를 풀기까지 15년이 걸릴 수 있다고 했습니다.

앞으로 지켜볼 점

• 빛의 파장과 더 많은 시험 결과를 공개하는지 여부.
• 아직 개념 단계인 '고출력(High Power)' 버전의 진전.
• ASML도 풀어야 했던 장시간 안정성 문제를 해결하는지 여부.
• 실제로 얼마나 많은 부품을 중국에서 만들 수 있는지. 회사는 레이저의 90%가 중국 부품이라고 말합니다.